ＪＸ金属株式会社の評価
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職場環境：
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入社理由と
入社後の
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会社の将来性：
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スキルアップ：
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多様性への配慮：
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ワークライフ
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退職理由：
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福利厚生・制度：
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経営者の提言：
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年収・給与：
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面接・選考：
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やりがい：
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企業について
半導体や電子機器に使われる銅・レアメタルの先端材料をつくる非鉄金属メーカー。主力は、半導体の回路に金属の薄膜を張る工程で材料として消費される「スパッタリングターゲット」と、スマートフォンや車載機器の曲がる基板に使われる「圧延銅箔」の2つで、どちらも完成品の表には出ないが、その中の配線そのものになる部材である。1905年に久原房之助が茨城県で開いた日立鉱山を起点とし、鉱山と製錬の会社として一世紀を過ごしたのち、1964年の金属加工、1985年の電子材料と主力を移してきた。現在も銅鉱山の権益・製錬・使用済み電子機器からの金属回収までを自社グループ内に持ち、鉱石から最終材料までを一本の流れでつないでいる点が事業の骨格になっている。2010年から石油元売との共同持株会社の傘下にあったが、2025年3月に東京証券取引所プライム市場へ上場した。単体では約3,250人が働き、グループ全体では約10,450人。2026年3月期の連結売上高は8,846億円。
事業内容
半導体材料：半導体用スパッタリングターゲット、高純度金属、表面処理剤、化合物半導体・結晶材料、タンタル・ニオブの金属粉末および酸化物粉末
情報通信材料：圧延銅箔、チタン銅、コルソン合金、スポンジチタン・チタンインゴット・超微粉ニッケル、電磁波シールドフィルム、ボンディングワイヤ、漏水検知システム
基礎材料：銅精鉱・モリブデン精鉱などの資源開発、電気銅・貴金属・硫酸の製錬、使用済み電子機器からの金属リサイクル
基本情報
- 設立
- 2002年9月
- 代表者
- 林陽一
- 資本金
- 750億円
- 売上高
- 8,846.4億円
- 従業員数
- 約3,250人
- 平均年収
- 830.9万円
- 平均年齢
- 41.5歳
- 平均勤続年数
- 12.9年
- 上場
- 東証プライム（証券コード 5016） 2025年上場
- 決算月
- 3月
- 所在地
- 東京都港区虎ノ門２丁目１０番４号
- 公式サイト
- https://www.jx-nmm.com/
- 採用情報
- 採用ページを見る
職場データ
- 女性労働者の割合
- 18.8%（正社員）
- 企業規模（男女別）
- 男性 約2,833人 / 女性 約434人
出典：職場情報総合サイト（厚生労働省）。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲（正社員のみか、パートを含むか）は企業によって異なります。
沿革
- 1905年
- 久原房之助が茨城県で日立鉱山の操業を開始（グループの創業）
- 1912年
- 久原鉱業株式会社を設立
- 1916年
- 大分県で佐賀関製錬所が操業を開始し、金属製錬事業を拡張
- 1929年
- 日本産業株式会社の鉱山・製錬部門を分離し、日本鉱業株式会社を設立
- 1964年
- 神奈川県に倉見工場を開設し、金属加工事業に本格進出
- 1978年
- 日立事業所にリサイクル炉を新設し、リサイクル事業を開始
- 1981年
- 日立鉱山が鉱量枯渇により閉山
- 1985年
- 茨城県に磯原工場を開設し、電子材料事業へ本格進出
- 2002年9月
- 日鉱金属とジャパンエナジーが株式移転により新日鉱ホールディングス株式会社（現・ＪＸ金属株式会社）を設立
- 2010年
- 新日鉱ホールディングスと新日本石油が株式移転によりＪＸホールディングス株式会社を設立、同年に日鉱金属を合併しＪＸ日鉱日石金属株式会社に商号変更
- 2014年
- チリのカセロネス銅鉱山で開山式を挙行
- 2016年
- ＪＸ金属株式会社に商号変更
- 2018年
- 東邦チタニウム株式会社とドイツのH. C. Starck Tantalum & Niobium社（現TANIOBIS）を子会社化
- 2024年8月
- タツタ電線株式会社を子会社化（同年11月に完全子会社化）
- 2025年3月
- 東京証券取引所プライム市場に上場
- 2026年2月
- 東邦チタニウム株式会社と株式交換契約・経営統合契約を締結（同年6月に完全子会社化）
取得している認定
- くるみん 子育てサポート企業として厚生労働大臣の認定
公式SNS
事業所・店舗
1拠点
神奈川県 1拠点
- ＪＸ金属コイルセンター株式会社 神奈川県寒川町倉見３番地
公的な記録
表彰 1件
- 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
届出・認定 4件
- ＤＸ認定制度
- ＤＸ認定制度
- ＤＸ認定制度
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物品の製造：A
物品の販売：A
役務の提供等：A
物品の買受け：A
補助金 1件
- 令和３年度休廃止鉱山鉱害防止等工事費補助金（休廃止鉱山鉱害防止施設等災害対策補助金）の交付決定について（見立鉱山）
官公庁からの受注 4件
- 航空機エンジン向け材料開発・評価システム基盤整備事業研究開発項目２「革新的合金探索手法の開発」
- ＮＥＤＯ先導研究プログラム新産業創出新技術先導研究プログラムポスト・ムーア時代の次世代配線開発
- エネルギー・環境新技術先導プログラム三次元金属積層造形における新合金開発のための合金設計シミュレーション技術の開発
- エネルギー・環境新技術先導プログラム ヘテロナノ組織を活用した革新的”超”高強度銅合金の設計技術および製造技術の研究開発
特許・意匠・商標 290件
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品
- 表面処理銅箔、銅張積層板、及びプリント配線板の製造方法
- Ｍｉｇｈｔｙ Ｓｈｉｅｌｄ
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- 磁性材料用スパッタリングターゲット
- リチウムイオン電池用正極活物質、リチウムイオン電池用正極、リチウムイオン電池、全固体リチウムイオン電池用正極活物質、全固体リチウムイオン電池用正極、全固体リチウムイオン電池、リチウムイオン電池用正極活物質の製造方法及び全固体リチウムイオン電池用正極活物質の製造方法
- 金属浸出方法及び金属回収方法
- スパッタリングターゲット部材、スパッタリングターゲット組立品、及び成膜方法
- コバルト溶液の製造方法、コバルト塩の製造方法、ニッケル溶液の製造方法、及びニッケル塩の製造方法
- フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器
- フレキシブルプリント基板用銅箔、それを用いた銅張積層体、フレキシブルプリント基板、及び電子機器
- リチウムイオン電池廃棄物の金属回収方法
- 非水電解質電池用タブリード
- ほか270件
この情報について
内容が最新でない場合や、文章作成の過程で不正確な場合がありますので、公式の資料でご確認ください。 企業のご担当者様は、会員登録のうえ内容を編集していただけます。
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出典：「Gビズインフォ」（経済産業省）
https://info.gbiz.go.jp/hojin/ichiran?hojinBango=2010001133878（2026年8月19日に利用）
同サイトの情報をもとに dive-for.com が作成しました。
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