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上村工業株式会社

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メーカー(素材・化学)業界

大阪府大阪市中央区道修町3丁目2番6号

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上村工業株式会社の評価

  • 職場環境: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 入社理由と
    入社後の
    ギャップ: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 会社の将来性: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • スキルアップ: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 多様性への配慮: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • ワークライフ
    バランス: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 退職理由: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 福利厚生・制度: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 経営者の提言: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 年収・給与: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 面接・選考: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • やりがい: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

企業について

めっきに使う薬品と、めっきを行うための装置、薬液の状態を分析して自動で補給する管理装置を、まとめて開発・製造する化学メーカー。1848年に大阪・道修町の和漢薬種商「讃岐屋」として始まり、1918年に輸入品だった研磨剤の国産化に成功、1957年にめっき用薬品、1960年に表面処理用機械へと事業を移して現在の形になった。めっきは素材の表面に金属の薄い膜をつける技術で、スマートフォンやパソコンに入るプリント基板の配線、ハードディスクの記録面の下地、半導体を基板につなぐ電極など、電子機器の内部で広く使われている。同社はこのうちハードディスク下地層を形成する無電解ニッケルめっきプロセスについて、国内トップシェアだと公表している。薬品・装置・管理装置の3分野をすべて自社で手がけており、開発と技術支援に携わる社員が全体の約半数を占める。米国・中国・台湾・韓国・東南アジアなど9つの国と地域に子会社を置き、単体では約284人、グループ全体では約1,528人が働いている。

事業内容

表面処理用資材事業:プリント基板用めっき薬品、アルミ磁気ディスク用めっき薬品の製造販売、工業用化学品・非鉄金属の仕入販売
表面処理用機械事業:プリント基板用めっき装置、アルミ磁気ディスク用めっき装置、めっき液の自動管理装置の製造販売
めっき加工事業:プラスチック、プリント基板などのめっき加工(海外子会社が担当)
不動産賃貸事業:オフィスビル、マンション、工場用地の賃貸

基本情報

設立
1933年12月
代表者
上村寛也
資本金
13.4億円
売上高
917.8億円
従業員数
約284人
平均年収
867.2万円
平均年齢
41.3歳
平均勤続年数
15.3年
上場
東証スタンダード(証券コード 4966) 1997年上場
決算月
3月
所在地
大阪府大阪市中央区道修町3丁目2番6号
電話番号
06-6202-8518
公式サイト
https://www.uyemura.co.jp/
採用情報
採用ページを見る

職場データ

平均勤続年数
その他 15.3年(男性 16.4年 / 女性 14.6年)

出典:職場情報総合サイト(厚生労働省)。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲(正社員のみか、パートを含むか)は企業によって異なります。

沿革

1848年
大阪・道修町で和漢薬種商「讃岐屋」として創業
1918年
輸入に頼っていた油脂性研磨剤の国産化に成功し、製造を開始
1933年12月
株式会社上村長兵衞商店を設立
1957年
めっき用化学品の製造を開始
1960年
機械事業部を設置し、表面処理用機械の製作を開始
1968年
大阪府枚方市に化成品工場と中央研究所を竣工
1969年
商号を上村工業株式会社に変更
1972年
無電解ニッケルめっき液「ニムデン」を発売
1984年
ハードディスク用無電解ニッケルめっき液「ニムデン HDX」を発売
1985年
米国に現地法人を設立し、以後アジアを中心に海外へ展開
1997年11月
大阪証券取引所市場第二部に上場
2013年
東京証券取引所と大阪証券取引所の統合に伴い、東京証券取引所市場第二部に上場
2022年4月
東京証券取引所スタンダード市場へ移行
2023年11月
枚方工場に新しい機械工場を竣工
2024年4月
めっき加工を担ってきた株式会社サミックスを吸収合併

公式SNS

公的な記録

官公庁からの受注 1件
  • NEDO先導研究プログラム新産業創出新技術先導研究プログラム高出力密度パッケージ向け塗布型機能性銅合金材料の研究開発 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構・2019年9月・999.8万円
特許・意匠・商標 86件
  • MOSL 2023年10月
  • NIKIST 2023年4月
  • ナイキスト 2023年4月
  • UYERIGHT 2022年6月
  • ウエライト 2022年6月
  • カグラピス 2022年4月
  • KAGLAPIS 2022年4月
  • 無電解Co-Wめっき皮膜、および無電解Co-Wめっき液 2022年4月
  • プレサ 2022年4月
  • PRESA 2022年4月
  • 無電解銅めっき液及び前記無電解銅めっき液を利用するナノ双晶銅金属層の製造方法 2022年4月
  • COPKIA 2021年5月
  • NIMUFLON 2021年3月
  • ニムフロン 2021年3月
  • 無電解Ni-Pめっき用触媒液、および該触媒液を用いた無電解Ni-Pめっき皮膜の形成方法 2020年7月
  • 錫または錫合金めっき浴 2020年6月
  • パラジウムめっき液及びめっき方法 2020年4月
  • スルニック 2019年10月
  • THRUNIC 2019年10月
  • 保持治具 2019年10月
  • ほか66件

この情報について

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