東洋合成工業株式会社の評価
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職場環境：
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入社理由と
入社後の
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会社の将来性：
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スキルアップ：
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多様性への配慮：
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経営者の提言：
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年収・給与：
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面接・選考：
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やりがい：
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企業について
半導体の回路を焼き付ける工程で使うフォトレジストの主原料となる感光材と、香料材料や溶剤などの化成品を製造する化学メーカー。1954年に麻酔薬などの医薬品用化学製品の製造・精製を目的として東京都江戸川区で日本アセチレン化学工業として設立され、1961年に現社名へ変更した。輸入品の蒸留精製、石油化学品を原料とする合成技術と主力を移し、1981年に感光性材料の製造を始めている。半導体は、感光性の樹脂を塗った基板に光を当てて回路の形を写し取る工程を繰り返してつくられる。東洋合成工業はその感光性樹脂の原料を供給する側におり、世界中のスマートフォン・タブレットの約70%に自社の材料が使われていると公表している。2020年には経済産業省の「グローバルニッチトップ企業100選」（素材・化学部門）に選ばれた。もう一つの柱である化成品事業では、香料材料や食品添加物、塗料原料を製造するほか、千葉県市川市の高浜油槽所で化学品をタンクに預かる保管・物流基地業務も担う。工場は市川市・香取郡東庄町・兵庫県淡路市にあり、2026年3月期の売上高は419億円、海外売上高比率は33.2%（2025年3月末時点）で、26カ国へ直接輸出している。
事業内容
感光性材料事業
半導体フォトレジスト用感光材の製造・販売
水溶性感光性樹脂「BIOSURFINER-AWP」の製造・販売
UVナノインプリント用樹脂の開発・製造
化成品事業
酢酸エステルなどの溶剤、塗料原料、合成樹脂添加剤の製造・販売
香料材料、食品添加物の製造・販売
高浜油槽所における液体化成品・LPGのタンク保管および物流基地業務
基本情報
- 設立
- 1954年9月
- 代表者
- 木村有仁
- 資本金
- 16.2億円
- 売上高
- 419.6億円
- 従業員数
- 約972人
- 平均年収
- 674.6万円
- 平均年齢
- 37歳
- 平均勤続年数
- 10.2年
- 上場
- 東証スタンダード（証券コード 4970） 2000年上場
- 決算月
- 3月
- 所在地
- 千葉県市川市上妙典１６０３番地
- 公式サイト
- https://www.toyogosei.co.jp/
- 採用情報
- 採用ページを見る
- お問い合わせ
- 問い合わせフォームを開く
職場データ
- 平均勤続年数
- その他 10.2年（男性 19.5年 / 女性 20.1年）
- 女性労働者の割合
- 0%（その他）
- 企業規模（男女別）
- 男性 約881人 / 女性 約153人
出典：職場情報総合サイト（厚生労働省）。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲（正社員のみか、パートを含むか）は企業によって異なります。
沿革
- 1954年9月
- 東京都江戸川区で日本アセチレン化学工業として設立、医薬品用化学製品の製造・精製を開始
- 1961年5月
- 商号を東洋合成工業に変更
- 1963年1月
- 千葉県市川市に新工場が竣工、酢酸エステルの製造を開始
- 1971年10月
- 市川市に高浜油槽所を開設、化成品のタンク保管業務を開始
- 1981年7月
- 本社工場内に感光性材料の製造施設が完成、感光材事業に参入
- 1988年9月
- 千葉県香取郡に感光性材料製造を目的とする千葉東洋合成を設立（1996年4月に合併、現・千葉工場）
- 1996年11月
- 千葉県印旛郡に新研究所が完成、感光材研究所を移転
- 2000年3月
- 日本証券業協会に株式を店頭登録
- 2004年12月
- ジャスダック証券取引所に株式を上場
- 2005年4月
- オランダ・ロッテルダム市に物流ターミナルを設置
- 2012年5月
- 千葉県香取郡東庄町に香料工場が竣工
- 2013年4月
- 兵庫県淡路市に淡路工場が竣工
- 2015年10月
- 中国・上海市に駐在員事務所を開設
- 2020年10月
- 千葉工場に第4感光材工場が竣工
- 2022年4月
- 東京証券取引所の市場区分見直しによりスタンダード市場へ移行
取得している認定
- くるみん 子育てサポート企業として厚生労働大臣の認定
- 健康経営優良法人 従業員の健康管理を経営的に実践している法人
公式SNS
事業所・店舗
1拠点
東京都 1拠点
- 東洋合成工業株式会社 東京都台東区浅草橋1-22-16 ヒューリック浅草橋ビル8F
公的な記録
表彰 1件
- 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
特許・意匠・商標 32件
- 成形物の製造方法、レプリカモールドの製造方法及びデバイスの製造方法
- オニウム塩、組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- 光酸発生剤、レジスト組成物及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
- 組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- スルホニウム塩、光酸発生剤、それを含む組成物、及び、デバイスの製造方法
- アルケニル化合物の合成方法及び製造方法
- 光酸発生剤、レジスト組成物、及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
- 組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- ヨードニウム塩化合物、それを含有する光酸発生剤及び組成物、並びに、デバイスの製造方法
- 塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子
- レジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- 担持型金属触媒
- 化合物及び有機材料の製造方法
- ポリマー、感放射線性組成物、化合物及びデバイスの製造方法
- ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
- 部品の製造方法
- デバイスの製造方法及び組成物
- 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物
- スルホン酸誘導体、それを用いた光酸発生剤、レジスト組成物及びデバイスの製造方法
- ほか12件
この情報について
内容が最新でない場合や、文章作成の過程で不正確な場合がありますので、公式の資料でご確認ください。 企業のご担当者様は、会員登録のうえ内容を編集していただけます。
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出典：「Gビズインフォ」（経済産業省）
https://info.gbiz.go.jp/hojin/ichiran?hojinBango=6040001027017（2026年8月19日に利用）
同サイトの情報をもとに dive-for.com が作成しました。
FAQ
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