東京応化工業株式会社の評価
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企業について
半導体をつくる工程で回路の模様を焼き付けるために使う感光性樹脂「フォトレジスト」を主力とする化学メーカー。1936年に東京市品川区で水酸化カリウムなどの試薬を製造する東京応化研究所として発足し、1962年にプリント基板用フォトレジスト、1972年に国産初の半導体用ポジ型フォトレジストを開発して主力を移した。フォトレジストはシリコンウェハーに塗って光を当て、現像すると回路の形だけが残る材料で、スマートフォンやデータセンターのサーバーに入る半導体は、この塗布と露光の工程を何十回も繰り返してつくられる。製品が店頭に並ぶことはないが、回路をどこまで細かく刻めるかはこの材料の性能に左右される。半導体の前工程向けに加え、チップをパッケージに封入する後工程や、デジタルカメラのイメージセンサー、スマートフォンのアンテナに使われるBAWフィルターの製造分野にも材料を供給している。川崎市の本社のほか宇都宮・熊谷・御殿場・郡山・阿蘇などに工場を置き、米国・台湾・中国・ドイツにも子会社を持つ。2025年12月期の連結売上高は2,370億円、従業員は単体1,555人、グループ全体では2,132人。
事業内容
半導体・ディスプレイのフォトリソグラフィ工程で用いる感光性樹脂（フォトレジスト）の製造・販売
半導体チップをパッケージに封入する後工程向け材料の製造・販売
イメージセンサー・BAWフィルターなど電子デバイス製造向け材料の製造・販売
高純度化学薬品の製造・販売
その他無機・有機化学薬品の製造・販売
基本情報
- 設立
- 1940年10月
- 代表者
- 種市順昭
- 資本金
- 146.4億円
- 売上高
- 2,370.3億円
- 従業員数
- 約1,555人
- 平均年収
- 972.9万円
- 平均年齢
- 40.7歳
- 平均勤続年数
- 16.7年
- 上場
- 東証プライム（証券コード 4186） 1986年上場
- 決算月
- 12月
- 所在地
- 神奈川県川崎市中原区中丸子１５０番地
- 電話番号
- 044-435-3000
- 公式サイト
- https://www.tok.co.jp/
- お問い合わせ
- 問い合わせフォームを開く
業績の推移（単体）
| 百万円 | 2021年12月期 第92期 | 2022年12月期 第93期 | 2023年12月期 第94期 | 2024年12月期 第95期 | 2025年12月期 第96期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 売上高 | 84,327 | 99,617 | 91,349 | 113,707 | 128,009 |
| 経常利益 | 16,401 | 20,363 | 13,335 | 24,686 | 32,256 |
| 当期純利益 | 16,987 | 15,819 | 10,297 | 20,987 | 27,556 |
| 純資産額 | 129,395 | 137,292 | 145,750 | 154,907 | 175,628 |
| 総資産額 | 164,548 | 175,185 | 181,967 | 196,093 | 237,803 |
| 従業員数 | 約1,261人 | 約1,346人 | 約1,355人 | 約1,447人 | 約1,555人 |
有価証券報告書の「主要な経営指標等の推移」より、提出会社（単体）の数字です。 連結の数字とは異なります。決算期を変更した場合、年の表示がずれることがあります。
大株主
- 日本マスタートラスト信託銀行株式会社（信託口） 14.8%
- 株式会社日本カストディ銀行（信託口） 6.5%
- 明治安田生命保険相互会社 （常任代理人 株式会社日本カストディ銀行） 4.6%
- 株式会社三菱UFJ銀行 3%
- 株式会社横浜銀行 （常任代理人 株式会社日本カストディ銀行） 2.6%
- 公益財団法人東京応化科学技術振興財団 2.5%
- 三菱UFJ信託銀行株式会社 （常任代理人 日本マスタートラスト 信託銀行株式会社） 2.4%
- 東京海上日動火災保険株式会社 2.2%
- 三菱UFJキャピタル株式会社 2.2%
- 東京応化社員持株会 1.6%
有価証券報告書の「大株主の状況」より。
職場データ
- 平均勤続年数
- 正社員 16.7年（男性 18.1年 / 女性 9.7年）
- 女性役員比率
- 10%（1人/10人）
- 女性労働者の割合
- 29.4%（正社員）
- 企業規模（男女別）
- 男性 約1,290人 / 女性 約265人
出典：職場情報総合サイト（厚生労働省）。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲（正社員のみか、パートを含むか）は企業によって異なります。
沿革
- 1936年4月
- 東京市品川区に東京応化研究所として発足し、精製水酸化カリウムの製造を開始
- 1940年10月
- 川崎市に東京応化工業株式会社を設立（東京応化研究所を改組）
- 1962年10月
- プリント基板用フォトレジストTPRの製造を開始
- 1968年3月
- 半導体用ネガ型フォトレジストOMR-81の製造を開始
- 1972年12月
- 国産初の半導体用ポジ型フォトレジストOFPR-2を開発
- 1981年6月
- 本格的な半導体用フォトレジスト量産工場として宇都宮工場を開設
- 1983年12月
- 化学薬品製造工場として熊谷工場を開設
- 1984年12月
- 阿蘇工場を開設
- 1986年7月
- 東京証券取引所市場第二部へ株式を上場
- 1987年3月
- 米国にオーカ・アメリカ社（現TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.）を設立
- 1990年9月
- 東京証券取引所市場第一部に指定替え
- 1998年1月
- 台湾東應化股份有限公司を設立
- 2012年8月
- TOK尖端材料株式会社を設立
- 2021年1月
- 上海帝奥科電子科技有限公司を設立
- 2022年4月
- 東京証券取引所の市場区分見直しによりプライム市場へ移行
- 2024年6月
- 阿蘇工場 阿蘇くまもとサイトが竣工
- 2025年2月
- ドイツのmicro resist technology GmbHを完全子会社化
取得している認定
- くるみん 子育てサポート企業として厚生労働大臣の認定
公的な記録
表彰 1件
- 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
届出・認定 1件
- ＤＸ認定制度
特許・意匠・商標 298件
- 半導体デバイス用処理液、基板の処理方法、及び半導体デバイスの製造方法
- ＴＲＩＣ
- 世界を高純度化する
- エコヒエ
- Ｅｃｏ Ｈｅ－Ａ
- レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
- 水性洗浄液及び電子デバイスの洗浄方法
- レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤
- レジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、化合物及びその中間体
- レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
- 光硬化性組成物
- レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
- Ｆｌｕｉｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ Ｄｒｉｖｉｎｇ Ｓｔａｔｉｏｎ
- レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
- レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤
- レジスト組成物、及び、レジストパターン形成方法
- レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物
- レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
- 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法
- 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法
- ほか278件
この情報について
内容が最新でない場合や、文章作成の過程で不正確な場合がありますので、公式の資料でご確認ください。 企業のご担当者様は、会員登録のうえ内容を編集していただけます。
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出典：「Gビズインフォ」（経済産業省）
https://info.gbiz.go.jp/hojin/ichiran?hojinBango=3020001069823（2026年8月11日に利用）
同サイトの情報をもとに dive-for.com が作成しました。
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