東京エレクトロン株式会社の評価
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職場環境：
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入社理由と
入社後の
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会社の将来性：
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スキルアップ：
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多様性への配慮：
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ワークライフ
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やりがい：
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企業について
半導体をつくる工程で使われる製造装置を開発し、グループ会社で製造して世界の半導体メーカーへ販売し、納入後の保守までを手がける。1963年に東京放送の出資で東京都港区赤坂に設立され、当初は米国製の拡散炉やICテスタを輸入して売る商社だったが、1968年に米サームコ社との合弁で拡散炉の国内生産を始めてから装置メーカーへ移り、1999年には東京証券取引所の業種区分も「商業」から「電気機器」へ変わった。スマートフォンやデータセンターに入る半導体は、シリコンウェーハに薄膜をつけ、回路の形に光を当て、要らない部分を削るといった工程を何百回も繰り返してつくられる。その工程を受け持つ装置が同社の製品にあたり、これまでの装置出荷台数は86,000台以上と公表している。単体では約2,400人が働き、グループ全体では約20,800人。世界18の国と地域に102拠点を置き、2026年3月期の連結売上高は2兆4,435億円。
事業内容
半導体製造装置の開発・製造・販売（有価証券報告書上は「半導体製造装置」の単一セグメント）
装置の納入前後を担うフィールドソリューション
・エンジニアリングサービス
・純正スペアパーツの供給とリペア
・既存装置を新機能に対応させる改造
・中古装置の調達、売買、保守
製造は東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ、東京エレクトロン九州、東京エレクトロン宮城などの連結子会社が担い、海外での保守サービスは各国の現地法人が行う
基本情報
- 設立
- 1963年11月
- 代表者
- 代表取締役社長・CEO 河合 利樹
- 資本金
- 549.6億円
- 売上高
- 2.4兆円
- 従業員数
- 約2,436人
- 平均年収
- 1,380.4万円
- 平均年齢
- 43.1歳
- 平均勤続年数
- 14.7年
- 上場
- 東証プライム（証券コード 8035） 1980年上場
- 決算月
- 3月
- 事業形態
- 法人向け（BtoB）
- 所在地
- 東京都港区赤坂５丁目３番１号
- 電話番号
- 03-5561-7000
- 公式サイト
- https://www.tel.co.jp/
職場データ
- 平均勤続年数
- 正社員 14.7年（男性 14.8年 / 女性 14.4年）
- 女性労働者の割合
- 20.6%（その他）
出典：職場情報総合サイト（厚生労働省）。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲（正社員のみか、パートを含むか）は企業によって異なります。
沿革
- 1963年
- 東京放送の出資により東京都港区赤坂に株式会社東京エレクトロン研究所を設立。拡散炉やIC製造機器の輸入販売を開始
- 1968年
- 米サームコ社との合弁テル・サームコを設立し、拡散炉の国内生産を開始
- 1972年
- 米国法人 TEL America, Inc.（現 Tokyo Electron America, Inc.）を設立
- 1978年
- 東京エレクトロン株式会社に商号変更
- 1980年
- 東京証券取引所市場第二部に上場
- 1982年
- テル・バリアンを設立し、イオン注入装置を国産化
- 1983年
- 熊本県に九州事業所を開設
- 1984年
- 東京証券取引所市場第一部に指定替え
- 1986年
- 半導体製造装置の輸出を開始
- 1990年
- ディスプレイ製造装置市場へ本格参入
- 1994年
- 欧州法人 Tokyo Electron Europe Ltd. を設立
- 1995年
- 初の海外開発・製造拠点 Tokyo Electron Oregon, Inc. を設立
- 1999年
- 東京証券取引所第一部の業種区分が「商業」から「電気機器」へ変更
- 2017年
- 東京エレクトロン山梨と東京エレクトロン東北が合併し、東京エレクトロン テクノロジーソリューションズとなる
- 2022年
- 東京証券取引所の市場区分見直しにより、市場第一部からプライム市場へ移行
公式SNS
公的な記録
届出・認定 3件
- ＤＸ認定制度
- ＤＸ認定制度
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物品の製造：
物品の販売：A
役務の提供等：A
官公庁からの受注 2件
- 省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発３Ｄインテグレーション研究開発
- ＮＥＤＯ先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラム超微細半導体用革新的ウェットプロセス・装置技術の開発
特許・意匠・商標 295件
- キャリア
- Ｄｒ．Ｗａｆｅｒ
- 基板洗浄具
- 半導体製造装置用研磨部付き洗浄ブラシ
- 半導体製造装置用研磨部付き洗浄ブラシ
- 伝熱ガスのリーク量低減方法
- §ＴＥＬ
- 基板処理装置
- プラズマ処理方法及びプラズマ処理システム
- §ＴＥＬ
- 基板処理装置のメンテナンス方法及び基板処理装置
- §ＡｎａｌｙｔｉＣｏｒｅ
- 基板保持方法及び基板処理装置
- 間接アドレス指定方式の条件ジャンプ命令を実行するプロセッサ、プログラム及び方法
- 半導体基板保持具
- 半導体基板保持具の土台
- ＫＡＧＵＲＡＳ
- ＺＥＸＳＴＡ
- 基板処理装置、及び基板処理方法
- Ｅｘｔｒｅｍｅｒ
- ほか275件
この情報について
内容が最新でない場合や、文章作成の過程で不正確な場合がありますので、公式の資料でご確認ください。 企業のご担当者様は、会員登録のうえ内容を編集していただけます。
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出典：「Gビズインフォ」（経済産業省）
https://info.gbiz.go.jp/hojin/ichiran?hojinBango=4010401020757（2026年8月23日に利用）
同サイトの情報をもとに dive-for.com が作成しました。
FAQ
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