株式会社トリケミカル研究所の評価
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職場環境:




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入社理由と
入社後の
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スキルアップ:




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多様性への配慮:




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ワークライフ
バランス:



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退職理由:




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経営者の提言:




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年収・給与:




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面接・選考:




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やりがい:




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企業について
半導体をつくる工程で使われる高純度の化学薬品を、開発から製造・販売まで手がける化学メーカー。1978年に神奈川県相模原市で無機化学工業製品の会社として設立され、光ファイバーの原材料から水分を取り除く技術で事業を始め、1983年に三塩化硼素の量産化に成功して半導体業界への供給を開始した。半導体はシリコンの薄い基板(ウェハ)の上に電子回路を積み上げて作られ、その途中には膜を化学反応で積む「CVD」、膜の不要な部分を削り取る「エッチング」、基板の内部に不純物を入れる「拡散」といった工程がある。同社の材料はそのいずれの工程にも入っており、スマートフォンやデータセンターに使われる半導体が作られる現場を、材料の側から受け持っている。本社工場・第二工場・Annex棟のある山梨県上野原市を拠点とし、2025年には同じ山梨県の南アルプス市に事業所を設けた。台湾に製造子会社、韓国にSK Inc.との合弁会社を置き、単体では約265人、グループ全体では約313人が働いている。
事業内容
半導体用材料(CVD材料・ドライエッチング材料・拡散材料)の開発・製造・販売
光ファイバー母材用材料および各種添加剤の製造・開発
化合物半導体・酸化物半導体用材料の製造・販売
太陽電池用材料の製造・販売
高純度コーティング材料・触媒・特殊試薬の製造・販売
化学薬品輸送用容器の設計・販売
新規薬品の受託合成、成膜試験・物性分析などの受託業務
基本情報
- 設立
- 1978年12月
- 代表者
- 太附 聖
- 資本金
- 32.8億円
- 売上高
- 238.8億円
- 従業員数
- 約265人
- 平均年収
- 837.7万円
- 平均年齢
- 34.5歳
- 平均勤続年数
- 9年
- 上場
- 東証プライム(証券コード 4369) 2007年上場
- 決算月
- 1月
- 所在地
- 山梨県上野原市上野原8154番地217
- 電話番号
- 0554-63-6600
- 公式サイト
- https://www.trichemical.com/
- 採用情報
- 採用ページを見る
職場データ
- 企業規模(男女別)
- 男性 約222人 / 女性 約41人
出典:職場情報総合サイト(厚生労働省)。企業が公表した時点の数値で、 集計の範囲(正社員のみか、パートを含むか)は企業によって異なります。
沿革
- 1978年12月
- 神奈川県相模原市に株式会社トリケミカル研究所を設立
- 1979年12月
- 光ファイバー用原材料の水分除去に成功し、供給を開始
- 1983年2月
- 三塩化硼素の量産化に成功し、半導体用エッチング材料の供給を開始
- 1984年3月
- 本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転
- 1994年11月
- 本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現・上野原市)に移転
- 2007年8月
- 大阪証券取引所ヘラクレスに上場
- 2008年11月
- 山梨県上野原市に上野原第二工場を建設
- 2013年12月
- 大韓民国に韓国事務所を開設
- 2016年7月
- SK Materials Co., Ltd.との合弁で韓国にSK Tri Chem Co., Ltd.を設立
- 2017年3月
- 台湾に100%子会社の三化電子材料股份有限公司を設立
- 2018年1月
- 東京証券取引所市場第一部へ市場変更
- 2020年9月
- 山梨県上野原市にAnnex棟を建設
- 2024年8月
- 中国上海市に100%子会社の上海特李化学科技有限公司を設立
- 2025年3月
- 山梨県南アルプス市に南アルプス事業所を建設
公的な記録
特許・意匠・商標 5件
- 酸化珪素膜形成方法
- 濾過装置
- 溶存ガス除去方法および溶存ガス除去装置
- HOC
- ZOC
この情報について
内容が最新でない場合や、文章作成の過程で不正確な場合がありますので、公式の資料でご確認ください。 企業のご担当者様は、会員登録のうえ内容を編集していただけます。
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出典:「Gビズインフォ」(経済産業省)
https://info.gbiz.go.jp/hojin/ichiran?hojinBango=2090001008148(2026年8月17日に利用)
同サイトの情報をもとに dive-for.com が作成しました。
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