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株式会社昭和真空

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メーカー(機械・電気・電子)業界

神奈川県相模原市中央区田名3062番地10

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株式会社昭和真空の評価

  • 職場環境: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 入社理由と
    入社後の
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  • 会社の将来性: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • スキルアップ: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 多様性への配慮: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • ワークライフ
    バランス: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 退職理由: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 福利厚生・制度: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 経営者の提言: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 年収・給与: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 面接・選考: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • やりがい: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

企業について

真空にした容器の中で、金属や酸化物の膜を基板の表面に薄く積む装置をつくるメーカー。1953年に小俣真空機器研究所として真空ポンプの製造から始まり、1960年に水晶振動子用真空蒸着装置の第1号機を完成させて以降、水晶デバイスの製造装置を主力に据えている。水晶デバイスは時計やスマートフォン、自動車の電子機器に組み込まれ、時刻や通信の周波数の基準をつくる部品で、その振動数を膜の厚みで微調整する工程に昭和真空の装置が使われる。眼鏡やカメラのレンズに反射防止膜をつける光学用の装置も手がけ、主要納入先には京セラ、セイコーエプソン、大真空、日本電波工業、村田製作所が並ぶ。1981年に真空装置メーカーのアルバックから資本参加を受け、2026年3月末時点で同社が発行済株式の21.32%を保有するアルバックグループの一員。神奈川県相模原市の本社・相模原工場と上海の子会社2社を拠点とし、2026年3月期の連結売上高は93億円、単体の従業員は175人。2020年に経済産業省の「グローバルニッチトップ企業100選」に選定されている。

事業内容

水晶デバイス製造用の真空蒸着装置・周波数調整装置
光学薄膜用の真空蒸着装置・スパッタリング装置・ALD装置
電子部品向けスパッタリング装置、ドライエッチング・アッシング装置
真空冶金(溶解・熱処理・焼結・脱ガス)装置
光学薄膜用モニター、IAD冷陰極イオンソースなどの真空機器・構成部品
納入装置の構成部品・付属品の販売、改造工事、修理

基本情報

設立
1958年8月
代表者
小俣邦正
資本金
21.8億円
売上高
93.2億円
従業員数
約175人
平均年収
664.8万円
平均年齢
45.4歳
平均勤続年数
19.9年
上場
東証スタンダード(証券コード 6384) 2000年上場
決算月
3月
所在地
神奈川県相模原市中央区田名3062番地10
電話番号
042-764-0370
公式サイト
https://www.showashinku.co.jp/
採用情報
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お問い合わせ
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沿革

1953年
前身の小俣真空機器研究所を設立
1955年
油回転真空ポンプ「MP-250」の製造を開始
1958年8月
昭和眞空機械株式会社を設立
1960年
水晶振動子用真空蒸着装置の第1号機を完成
1961年
光学用真空蒸着装置の第1号機を完成
1971年
本社・工場を神奈川県相模原市大野台に移転
1974年
水晶振動子用周波数調整全自動真空蒸着装置「SC-6SA」を完成
1978年
日本真空技術(現・アルバック)と業務提携し、社名を株式会社昭和眞空に変更
1981年
日本真空技術(現・アルバック)から資本参加を受ける
1997年
社名を株式会社昭和真空に変更
2000年12月
日本証券業協会に株式を店頭上場
2002年8月
中国に昭和真空機械(上海)有限公司を設立
2004年12月
ジャスダック証券取引所(現・東京証券取引所スタンダード市場)に株式を上場
2016年
光学薄膜用ALD装置「Genesis-AR Series」を開発
2020年6月
経済産業省の「グローバルニッチトップ企業100選」に選定される

取得している認定

  • 健康経営優良法人 従業員の健康管理を経営的に実践している法人

公的な記録

届出・認定 1件
  • 物品の製造:B
    物品の販売:A
    役務の提供等:A
    デジタル庁
特許・意匠・商標 27件
  • 水晶デバイスの製造法 2022年9月
  • EPIoT 2021年9月
  • 蒸着源 2020年3月
  • リーク検査方法及びリーク検査装置 2020年2月
  • プラズマ処理装置、バイアス印加機構、および基板パレット 2020年2月
  • SHOWA SHINKU 2019年6月
  • プローブピン位置合せ装置及びプローブピン位置合せ装置を使用した電子デバイスの製造方法 2019年5月
  • COÅT LEADER 2017年11月
  • 環状成膜方法、環状成膜具および環状成膜用マスク 2017年10月
  • 膜厚監視装置、成膜装置及び膜厚監視方法 2017年9月
  • 反応性スパッタリングの膜厚制御方法および装置 2017年7月
  • プラズマ生成装置及びイオン源 2017年7月
  • 電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 2017年3月
  • 封止機構 2017年3月
  • 電子部品の製造方法および装置 2016年10月
  • 電子部品の製造方法および装置 2016年10月
  • §SEARCHROID 2016年6月
  • SEARCHROID 2016年6月
  • 成膜装置及び成膜方法 2016年3月
  • 電子部品の移載方法および装置 2016年3月
  • ほか7件

この情報について

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