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株式会社エスケーエレクトロニクス

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メーカー(機械・電気・電子)業界

京都府京都市上京区東堀川通リ一条上ル竪富田町436番地の2

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株式会社エスケーエレクトロニクスの評価

  • 職場環境: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 入社理由と
    入社後の
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  • 会社の将来性: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • スキルアップ: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 多様性への配慮: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • ワークライフ
    バランス: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 退職理由: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 福利厚生・制度: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 経営者の提言: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 年収・給与: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • 面接・選考: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

  • やりがい: 星マーク星マーク星マーク星マーク星マーク -

企業について

スマートフォンやテレビ、パソコンの画面に使われる液晶パネル・有機ELパネルを製造する工程で必要になる原版「大型フォトマスク」の設計・製造・販売を主力とする。フォトマスクは、制御回路やカラーフィルターのパターンをガラス基板に転写するために使う原版で、パネルの量産や新製品の開発、製造ラインの新設の際に必要となる。パネルを作るメーカーの背後で、画面が大きく精細になるたびに更新される「型」を供給する位置にいる。源流は明治初頭に京都で銅版彫刻印刷を始めた石田旭山印刷所(現・株式会社写真化学)で、1971年に設けられたエレクトロニクス事業部門が2001年に会社分割で独立して現在の会社になった。1988年に世界初の大型EB描画装置を導入して以降、第8世代、第10・第11世代と大型化する基板に合わせて工場を建ててきた。京都工場と滋賀工場を持ち、台湾に製造・販売子会社、韓国と中国に販売子会社を置く。近年はRFIDタグや医療機器を扱うソリューション事業、2025年に子会社化したアサヒテック株式会社によるスクリーンマスク・メタルマスク事業も手がける。単体では約238人、グループ全体では約437人が働く。

事業内容

大型フォトマスク事業(液晶パネル・有機ELパネルの製造に使う大型フォトマスクの設計・製造・販売)
ソリューション事業(RFIDタグ・リーダライタ、ヘルスケア・医療機器の設計・製造・販売)
スクリーンマスク・メタルマスク事業(車載ガラスや電子部品の印刷工程に使うスクリーンマスク、半導体パッケージのはんだペースト印刷に使うメタルマスクの製造)

基本情報

設立
2001年10月
代表者
石田昌德
資本金
41.1億円
売上高
291.9億円
従業員数
約295人
平均年収
753.8万円
平均年齢
43.4歳
平均勤続年数
12.8年
上場
東証スタンダード(証券コード 6677) 2004年上場
決算月
9月
所属団体
京都商工会議所
所在地
京都府京都市上京区東堀川通リ一条上ル竪富田町436番地の2
公式サイト
http://www.sk-el.co.jp/
採用情報
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お問い合わせ
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沿革

1868年
石田旭山印刷所(株式会社写真化学の前身)として京都で事業を開始
1971年
株式会社写真化学がエレクトロニクス事業部門(現在の当該事業)を新設
1981年
久御山事業所(現・京都工場)を開設
1988年
久御山事業所に新工場を増設し、世界初の大型EB描画装置を導入
1995年
工場・設備を一新し、800mmサイズの大型フォトマスクの製造を開始
2001年10月
株式会社写真化学のエレクトロニクス事業部門を会社分割で独立させ、京都市上京区に設立
2002年5月
台湾に大型フォトマスクの製造・販売会社「頂正科技股份有限公司」を設立
2003年9月
日本証券業協会に店頭登録銘柄として登録
2004年12月
大阪証券取引所JASDAQ(現・東京証券取引所スタンダード市場)に株式を上場
2005年1月
京都工場に世界初の第8世代対応の新工場が竣工
2005年11月
韓国に販売会社「SKE KOREA CO.,LTD.」を設立
2008年11月
世界初の第10世代・第11世代対応の滋賀工場が竣工
2010年9月
中国に販売会社「愛史科電子貿易(上海)有限公司」を設立
2014年10月
京都府から第二種医療機器製造販売業の許可を取得し、ヘルスケア分野に参入
2022年5月
RFID「エクストリームタグ」の販売を開始
2025年
アサヒテック株式会社を子会社化

公的な記録

特許・意匠・商標 46件
  • フォトマスクの製造方法 2023年4月
  • フォトマスクの製造方法 2023年2月
  • §Extrem eTag 2022年5月
  • パターン修正方法 2021年8月
  • パターン修正方法 2021年8月
  • フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法 2021年6月
  • フォトマスク及びその製造方法 2020年10月
  • フォトマスク 2020年7月
  • プロキシミティー露光用フォトマスク 2020年6月
  • フォトマスクの修正方法 2020年5月
  • フォトマスクの検査装置及び検査方法 2020年5月
  • フォトマスク及びその製造方法 2020年4月
  • フォトマスクの製造方法 2020年4月
  • §Q‐CO 2020年4月
  • ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク 2020年3月
  • ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク 2020年3月
  • フォトマスク 2020年1月
  • 露光方法及び露光装置 2019年8月
  • RFタグ 2019年5月
  • 非接触情報担体 2019年4月
  • ほか26件

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